Elaboration and characterization of thin layers (TCO) of type (ZnO:In,Al and Mg) deposited by Elecrodepositon method for photovoltaic application

Abstract

Le présent travail consiste à étudier l'influence du dopage pour différents éléments sur les propriétés des couches minces de ZnO par la méthode d'électrodéposition. L'objectif principal de notre travail est d'étudier l'effet de l'indium, de l'aluminium et du magnésium à sa concentration atomique (3%) dans la solution de départ, sur les différentes propriétés des couches minces de ZnO. Nous avons utilisé la diffraction des rayons X pour déterminer la structure des films a montré que : La structure des films déposés est hexagonale de type (wurtzite) avec une direction préférentielle suivant (002) pour le Zno:(In,Al) la taille moyenne des grains variait de 90.67 à 94.38nm, avec une direction préférentielle suivant (101) pour le Zno:Mg la taille moyenne des grains variait de 120.67 nm,La diffraction des rayons X et les mesures optiques confirment la substitution des ions dopants dans les sites principaux de la structure ZnO.